黑體爐的發射器表面溫度受到精密的控制，以產生穩定且準確的紅外線輻射。黑體爐分成平面與腔式兩種。平面黑體爐又分成絕對溫度及差異溫度兩種用途。絕對溫度黑體爐控制發射器的高發射率表面使其溫度準確穩定而且均勻。所以大部分用來做溫度遙測儀器例如熱像機或點溫槍的溫度校正用。也做為熱像機的非均勻度修正 (NUC) 以及壞像素取代 (BPR) 使用。差異溫度黑體爐需要控制黑體發射器以及標靶的溫度差異，所以需要同時量測黑體發射器及標靶 (浮動溫度) 的溫度。黑體由標靶後方輻射，藉由標靶與黑體之間的溫差 (正溫差與負溫差) 來產生熱像機可以看到的影像，並藉者控制溫度及轉換標靶所產生不同的圖案來測試熱像機的各種性能，例如：調制轉換函數 (MTF)，信號轉換函數 (SiTF)，雜訊等量溫差 (NETD)，最小可解析溫差 (MRTD)，視線保持 (LOS), 均勻度，等。